参数名 (Tag) | 类型 | 默认值 (Default) | 功能描述 |
TIME | 实数 (real) | 0.4 | 控制 IALGO=5X 系列算法的时间步长,以及 IALGO=4X (RMM-DIIS) 算法初始最速下降阶段的步长。 |
方面 | 说明与解释 |
核心功能 | 在直接最小化算法中,TIME扮演着类似于分子动力学中“时间步长”的角色,决定了沿梯度方向移动的步长大小。 |
适用算法 | 主要影响:• IALGO = 53, 54 (对应 ALGO = Damped):阻尼分子动力学算法。• IALGO = 58 (对应 **`ALGO = All |
取值影响 | • 值过大 (>> 0.4):可能导致收敛不稳定、震荡甚至发散。• 值过小 (<< 0.4):导致收敛速度过慢,需要更多的电子迭代步数。 |
默认值 | 0.4 是一个对绝缘体和普通半导体较为稳健的通用值。 |
调整策略 | 1. 从较小值开始:对于难以收敛的体系(如金属、小带隙半导体、杂化泛函计算),建议从 0.1 或 0.2 开始测试。2. 逐步增加:以步长 0.1 或乘以 1.2 的因子逐步增加 TIME,直到计算出现不收敛的迹象。3. 选择最优值:选择在发散前最大的稳定 TIME值,以获得最快的收敛速度。 |
依赖性 | 最优的 TIME值强烈依赖于体系类型和电子结构:• 绝缘体:可以容忍较大的 TIME(如 0.4 - 0.5)。• 金属/窄带隙体系:需要较小的 TIME(如 0.05 - 0.2),因为费米面附近的态密度高,变化剧烈。 |
计算场景 | 推荐操作 |
标准计算 (使用默认算法) | 无需设置。TIME主要影响 ALGO=Damped/All。 |
使用 ALGO = Damped或 All | 需要进行收敛测试。这是使用 TIME参数的主要场景。 |
体系是绝缘体 | 可以从默认值 0.4 开始测试。 |
体系是金属或使用杂化泛函 | 从较小的值开始,如 0.1,然后逐步增加。 |
计算发散 | 减小 TIME 是首要的尝试方法。 |
https://vasp.at/wiki/TIME